扫描电子显微镜（SEM）

　　二次及背向散射电子&X射线

　　B-U (EDS mode)

　　0.1 - 1 at%

　　0.5 - 3 μm (EDS)

　　高辨析率成像

　　元素微观分析及颗粒特征化描述

　　X射线能谱仪（EDS）

　　二次背向散射电子&X射线

　　B-U

　　0.1 – 1 at%

　　0.5 – 3 μm

　　小面积上的成像与元素组成；缺陷处元素的识别/绘图；颗粒分析 gt;300nm）

　　显微红外显微镜（FTIR）

　　红外线吸收

　　分子群

　　0.1 - 1 wt%

　　0.1 - 2.5 μm

　　污染物分析中识别有机化合物的分子结构

　　识别有机颗粒、粉末、薄膜及液体（材料识别）

　　量化硅中氧和氢以及氮化硅晶圆中的氢 （Si-H vs. N-H）

　　污染物分析（析取、除过气的产品，残余物）

　　拉曼光谱（Raman）

　　拉曼散射

　　化学及分子键联资料

　　>=1 wt%

　　共焦模式

　　1到5 μm

　　为污染物分析、材料分类以及张力力测量而识别有机和无机化合物的分子结构

　　拉曼，碳层特征 （石墨、金刚石 ）

　　非共价键联压焊(复合体、金属键联)

　　定位(随机v. 有组织的结构)

　　俄歇电子能谱仪（AES）

　　来自表面附近的Auger电子

　　Li-U

　　0.1-1%亚单层

　　20 – 200 ?侧面分布模式

　　缺陷分析；颗粒分析；表面分析；小面积深度剖面；薄膜成分分析

　　X射线光电子能谱仪（XPS）

　　来自表面原子附近的光电子

　　Li-U化学键联信息

　　0.01 - 1 at% sub-monolayer

　　20 - 200 ?（剖析模式）

　　10 - 100 ? (表面分析）

　　有机材料、无机材料、污点、残留物的表面分析

　　测量表面成分及化学状态信息

　　薄膜成份的深度剖面

　　硅 氧氮化物厚度和测量剂量

　　薄膜氧化物厚度测量（SiO2, Al2O3 等.）

　　飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）

　　分子和元素种类

　　整个周期表，加分子种类

　　107 - 1010at/cm2 sub-monolayer

　　1 - 3 monolayers (Static mode)

　　有机材料和无机材料的表面微量分析

　　来自表面的大量光谱

　　表面离子成像